偷窃技术？不，这是弯道超车！ 056 三款高科技展品，全部来自龙芯..(1/2)

“龙芯架构？”

“这份方案书好啊，这一款架构已经有产品了，早已垄断全球市场，拿去CES电子消费展正合适。”

递给其他审核专家也看看，

大家都一致同意。

龙芯公司的产品值得信赖。

EDA软件也是龙芯公司开发的，

早就是内定的展品，

不用写方案书。

算起来，这是龙芯公司的第二款高科技。

真是一家了不起的企业！

接着再往下审核，

这位专家眼睛再度发亮！

1nmAI芯片设计方案书？

这个标题，

让他直接震惊了！

连忙给其他专家查看。

十二个专家都看了一遍，

一致认为，

这份方案书确实了不起，

可是眼下距离展览时日不多，

想要在这么短的时间内设计出来，

难如登天！

在场的专家心中，未免都觉得有些可惜。

然而，

当看完这两份方案书，

准备再装回到文件袋当中去的时候，

忽然发现里面还有一个说明材料，

拿出来一看，

这些专家纷纷惊呆了！

原来1nmAI芯片已经设计出来了，

还得到了许老，赵所长，郑博三位权威专家的一致认可！

再也没有任何疑虑。

专家组十二名成员纷纷没有话说，

这份方案书直接入选。

当天，

两百多分方案书审核下来，

最后选择出来的只有两份方案书，

就是龙芯公司提交上来的。

再加上原先内定的龙芯EDA软件，

好家伙！

这次CES电子消费展，夏国三件展品竟然来自同一家企业。

其实，

他们不知道的是，

不仅来自同一家企业，

还出自同一个人的手笔。

……

很快。

刘主任得到这个消息，欣喜若狂，

马上打电话过来通知，

当王爱国进来向他汇报的时候，

叶龙丝毫没有感觉到惊讶，

他提交的两份方案书，选上很正常，选不上才值得让人惊讶呢。

经过这几天的努力科研，

光源系统他终于搞定。

他研发的这款EUV光刻机，使用的光源模块比起世界上任何一种都要先进。

只要对光刻机有一定了解的都知道，

EUV光刻机又叫做极紫外光光刻机。

之所以如此命名，

就是因为荷国阿斯麦公司研发的EUV光刻机，使用的光源就是极紫外光。

这种光源非常独特，

波长短，

能量足够，

曝光均匀。

最重要的一点，

就是波长短！

这一点尤为重要，

几乎决定EUV光刻机的水准！

波长越短，可曝光的特征尺寸就越小;

用白话来解释，

波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，能够实现的电路图尺寸也就越小。

可见光，g线:436nm

紫外光(UV)，i线:365nm

深紫外光(DUV),KrF准分子激光:248nm,ArF准分子激光:193nm

极紫外光(EUV)，10~15nm

以上这四种类型，是光刻机光源模块采用的四种光源。

前面三种类型的光源，夏国已经全部掌握。

只有第四种，

极紫外光，难度极高，

目前为止也只有米国掌握。

荷国光刻机巨头，阿斯麦公司，

制造的EUV光刻机，

光源模块也是直接从米国买过来的。

使用极紫外光，光刻5nm芯片自然没有问题，

可是3nm芯片，

甚至2nm芯片，

乃至1nm芯片，

就完全不行。

必须要波长更短的光源才可以实现。

而叶龙抽奖的时候，已经获得这种光源获得方式：

电子束光源技术！

没错！

顾名思义，

这种光源完全是电子束发出的光线。

波长与极紫外光相比，

尺寸小了至少三倍！

波长只有3~5nm，制造1nm芯片电路图都毫无压力。

再说光线能量问



请下载app访问，点击下载app